半導体用高純度PGMEA世界市場：2031年に5.72億米ドル規模へ、CAGR 6.5%で成長予測
公開 2026/01/16 18:16
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Globalinforesearch 最新報告書が注目の的に！GlobaI Info Researchは、「半導体用高純度PGMEAの世界市場2026年：メーカー、地域別、タイプ、用途別、2032年までの予測」の最新調査レポートを発表しました。
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https://www.globalinforesearch.jp/reports/1024882/high-purity-pgmea-for-semiconductors
半導体用高純度PGMEAとは
半導体用高純度PGMEAとは、フォトリソグラフィ工程におけるレジストの溶剤・希釈剤として用いられる高純度電子材料である。微細加工の高度化が進む半導体製造では、レジストの均一塗布性、パターン形成精度、不純物管理が極めて重要となるため、PGMEAにはppmレベルを超える高い純度管理と安定した化学特性が求められる。特に、微細化ノードの進展に伴い、金属イオン、微粒子、水分、有機不純物などを極限まで排除することが不可欠であり、PGMEAの品質はチップ歩留まりに直結する。高純度PGMEAは半導体ファブの安定稼働を支える基盤材料として位置付けられ、フォトリソ業界全体の性能向上を牽引する重要素材である。
微細化トレンドが牽引する市場拡大
GIRによれば、グローバル半導体用高純度PGMEA市場は2025～2031年にCAGR 6.5%で成長し、2031年には5.72億米ドルに達すると予測される。微細化ノードの進展に伴い、レジスト材料の性能要求が高まることで、高純度PGMEAの需要は継続的に拡大する。特に、歩留まり安定と製造効率の確保を目的として、ファブはより高純度かつ低不純物の溶剤を採用する傾向を強めており、市場は安定した成長軌道を描くと考えられる。
高純度管理と供給安定性が需要を支える背景
市場成長の背景には、半導体製造ラインの高度化に伴う純度要件の厳格化と、グローバルな供給安定性の重要度向上がある。レジスト材料の高性能化に合わせ、溶剤にもより高い化学的安定性・低汚染性が求められるため、メーカーは精製技術と品質管理体制を強化する必要がある。また、ファブ増設や各地域における製造能力拡大が進む中で、安定供給を確保できる原材料の重要性は高まり、高純度PGMEAの需要を長期的に支える構造が形成されつつある。
グローバル供給を支える中核メーカーの競争力
GIRのトップ企業研究センターによると，半導体用高純度PGMEA市場は、ダウ（Dow）、シェル（Shell）、ダイセル（Daicel）、イーストマン（Eastman）、ライオンデルバセル（LyondellBasell）、ジェウォンインダストリアル（Jaewon Industrial）、KHネオケム（KH Neochem）、江蘇ダイナミック（Jiangsu Dynamic）、ケムトロニクス（Chemtronics）、長春グループ（Chang Chun Group）といった世界的化学メーカーによって形成されている。2024年時点でトップ5企業が約44.0%の市場シェアを占め、さらにトップ10企業では約66.0%に達しており、市場は高純度精製技術と大規模供給体制を持つ企業に集約される構造となっている。各社はフォトレジスト向けグレードの品質安定性、極低不純物管理、供給チェーンの信頼性を武器に競争優位を固めており、半導体産業の高度化に合わせて製造設備投資や品質保証体制の強化を進めている。
市場展望：微細化需要に支えられた持続的な成長基調
半導体の微細化と製造高度化が進む中で、高純度PGMEAの重要性は今後さらに高まると予測される。フォトリソグラフィ工程における歩留まり安定と高精度パターン形成には、溶剤の純度・一貫品質・低汚染性が不可欠であり、市場全体の需要は継続的に拡大する見通しである。主要メーカーによる精製技術革新や電子材料グレードの供給体制強化が進むことで、グローバル市場は品質志向の高度化とともに長期的な成長軌道を描くと考えられる。
本レポートの提供価値：
①消費動向と市場予測分析：世界の半導体用高純度PGMEA市場の消費動向について、主要地域・国、製品タイプ、用途別に分類し、2021～2025年の過去データ及び2032年までの予測データに基づいて、詳細な分析を行います。
②市場構造の深い理解：半導体用高純度PGMEA市場を構成する各セグメントを明確に区分し、業界の全体像を把握できるよう支援します。
③主要メーカーの詳細分析：半導体用高純度PGMEA市場で影響力を持つ企業に焦点を当て、それぞれの販売量、売上、市場シェア、競争ポジションを評価。各社の強みと弱みを整理し、将来の成長戦略について考察します。
④成長動向と市場貢献度の評価：個別の成長トレンドを分析し、将来的な市場の発展と半導体用高純度PGMEAが果たす役割について詳しく解説します。
⑤市場成長要因の解析：半導体用高純度PGMEA市場の成長に影響を与える主要因（成長機会、推進力、業界特有の課題、リスク）を特定し、戦略的意思決定に役立つ情報を提供します。
⑥地域別のサブマーケット予測：主要な国・地域ごとにサブマーケットの成長を予測し、各市場の潜在機会を評価します。
⑦競争動向と業界戦略の把握：半導体用高純度PGMEA市場の競争環境を分析し、企業の市場拡大、契約、製品発表、買収などの動向を調査、把握します。
⑧主要プレイヤーの戦略分析：半導体用高純度PGMEA市場で活躍する企業の戦略を総合的に分析し、それぞれの市場進出方法や成長方針を明らかにします。
会社概要
Global Info Researchは、企業に豊富な市場開発分析レポートを提供しています。グローバル業界情報を深く掘り下げ、市場戦略的サポートを提供する会社です。Global Info Researchは、企業の戦略的計画と公式情報の報告をサポートするために、グローバル地域で市場情報コンサルティングサービスを提供します。特に電子半導体、化学物質、医療機器などの分野で、カスタマイズされた研究、管理コンサルティング、IPOコンサルティング、産業チェーン研究、データベース、トップ業界サービスを提供しています。
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半導体用高純度PGMEAとは
半導体用高純度PGMEAとは、フォトリソグラフィ工程におけるレジストの溶剤・希釈剤として用いられる高純度電子材料である。微細加工の高度化が進む半導体製造では、レジストの均一塗布性、パターン形成精度、不純物管理が極めて重要となるため、PGMEAにはppmレベルを超える高い純度管理と安定した化学特性が求められる。特に、微細化ノードの進展に伴い、金属イオン、微粒子、水分、有機不純物などを極限まで排除することが不可欠であり、PGMEAの品質はチップ歩留まりに直結する。高純度PGMEAは半導体ファブの安定稼働を支える基盤材料として位置付けられ、フォトリソ業界全体の性能向上を牽引する重要素材である。
微細化トレンドが牽引する市場拡大
GIRによれば、グローバル半導体用高純度PGMEA市場は2025～2031年にCAGR 6.5%で成長し、2031年には5.72億米ドルに達すると予測される。微細化ノードの進展に伴い、レジスト材料の性能要求が高まることで、高純度PGMEAの需要は継続的に拡大する。特に、歩留まり安定と製造効率の確保を目的として、ファブはより高純度かつ低不純物の溶剤を採用する傾向を強めており、市場は安定した成長軌道を描くと考えられる。
高純度管理と供給安定性が需要を支える背景
市場成長の背景には、半導体製造ラインの高度化に伴う純度要件の厳格化と、グローバルな供給安定性の重要度向上がある。レジスト材料の高性能化に合わせ、溶剤にもより高い化学的安定性・低汚染性が求められるため、メーカーは精製技術と品質管理体制を強化する必要がある。また、ファブ増設や各地域における製造能力拡大が進む中で、安定供給を確保できる原材料の重要性は高まり、高純度PGMEAの需要を長期的に支える構造が形成されつつある。
グローバル供給を支える中核メーカーの競争力
GIRのトップ企業研究センターによると，半導体用高純度PGMEA市場は、ダウ（Dow）、シェル（Shell）、ダイセル（Daicel）、イーストマン（Eastman）、ライオンデルバセル（LyondellBasell）、ジェウォンインダストリアル（Jaewon Industrial）、KHネオケム（KH Neochem）、江蘇ダイナミック（Jiangsu Dynamic）、ケムトロニクス（Chemtronics）、長春グループ（Chang Chun Group）といった世界的化学メーカーによって形成されている。2024年時点でトップ5企業が約44.0%の市場シェアを占め、さらにトップ10企業では約66.0%に達しており、市場は高純度精製技術と大規模供給体制を持つ企業に集約される構造となっている。各社はフォトレジスト向けグレードの品質安定性、極低不純物管理、供給チェーンの信頼性を武器に競争優位を固めており、半導体産業の高度化に合わせて製造設備投資や品質保証体制の強化を進めている。
市場展望：微細化需要に支えられた持続的な成長基調
半導体の微細化と製造高度化が進む中で、高純度PGMEAの重要性は今後さらに高まると予測される。フォトリソグラフィ工程における歩留まり安定と高精度パターン形成には、溶剤の純度・一貫品質・低汚染性が不可欠であり、市場全体の需要は継続的に拡大する見通しである。主要メーカーによる精製技術革新や電子材料グレードの供給体制強化が進むことで、グローバル市場は品質志向の高度化とともに長期的な成長軌道を描くと考えられる。
本レポートの提供価値：
①消費動向と市場予測分析：世界の半導体用高純度PGMEA市場の消費動向について、主要地域・国、製品タイプ、用途別に分類し、2021～2025年の過去データ及び2032年までの予測データに基づいて、詳細な分析を行います。
②市場構造の深い理解：半導体用高純度PGMEA市場を構成する各セグメントを明確に区分し、業界の全体像を把握できるよう支援します。
③主要メーカーの詳細分析：半導体用高純度PGMEA市場で影響力を持つ企業に焦点を当て、それぞれの販売量、売上、市場シェア、競争ポジションを評価。各社の強みと弱みを整理し、将来の成長戦略について考察します。
④成長動向と市場貢献度の評価：個別の成長トレンドを分析し、将来的な市場の発展と半導体用高純度PGMEAが果たす役割について詳しく解説します。
⑤市場成長要因の解析：半導体用高純度PGMEA市場の成長に影響を与える主要因（成長機会、推進力、業界特有の課題、リスク）を特定し、戦略的意思決定に役立つ情報を提供します。
⑥地域別のサブマーケット予測：主要な国・地域ごとにサブマーケットの成長を予測し、各市場の潜在機会を評価します。
⑦競争動向と業界戦略の把握：半導体用高純度PGMEA市場の競争環境を分析し、企業の市場拡大、契約、製品発表、買収などの動向を調査、把握します。
⑧主要プレイヤーの戦略分析：半導体用高純度PGMEA市場で活躍する企業の戦略を総合的に分析し、それぞれの市場進出方法や成長方針を明らかにします。
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